半導体製造におけるシリコンウエハーの洗浄には、アルカリ性過酸化水素水が用いられますが、微量金属の混在により過酸化物の分解を生じ、洗浄効果の低下や、洗浄剤としての寿命を短くすることはよく知られています。
さらに、酸による洗浄工程においても微量金属の除去が必要です。
デイクエスト ホスホン酸は、これらシリコンウエハーの洗浄に使用されています。
電子基盤は、メッキ浴中に浸漬し電流を通す事で、金属の薄い膜を蒸着させます。
これら電子基盤製造には、メッキ浴に広くシアン化合物が使用されていますが、非常に毒性が強くシアン化水素の発生を避けるために適切なｐＨが保たれねばいけません。また、それらシアン化合物の廃棄費用は無視できません。
デイクエスト ホスホン酸は、シアンを含む例えば、銅メッキ浴中の金属の分散に役立ち、また微量金属のキレート剤として有効です。